Asit ve Alkali Kimyasal Temizlik – Ayırma Teknolojisi – Katı Sıvı Ayırma Teknolojisi – Kimya Mühendisliği – Ayırma Teknolojisi Ödevleri – Kimya Mühendisliği Ödev Yaptırma – Kimya Ödev Yaptırma Ücretleri
Bu nedenle tortu, tutma valfinin tam olarak açılması veya bir miktar temiz sızıntı, hava veya başka bir akışkan ile geri yıkama yoluyla transmembran basıncının anlık olarak düşürülmesi gibi basit bir mekanik şokla membrandan çıkarılabilir.
Birçok uygulamada bu mekanik tekniklerin bir kombinasyonu kullanılmaktadır. Retentat valf, transmembran basıncını artırmak için kullanılırsa, hızlı bir şekilde açılması çapraz akış oranını artırabilir ve aynı zamanda transmembran basıncını azaltabilir, bu da etkili bir membran temizleme yöntemi olabilir.
Transmembran basıncını düşürürken veya geri yıkama sırasında, filtrasyonun anlık olarak kesilmesi gerekir ve filtrelemeyi sürdürdükten sonra, permeat akış hızı, tekrar düşmeden ve başka bir temizleme döngüsünden önce önemli ölçüde artabilir. Elde edilen “testere dişi” akı eğrisinin bir resmi Şekil 10.24’te verilmektedir.
Bu tür bir temizlik, organik veya jelatinimsi maddeyle birbirine bağlanmayan ve zar yüzeyine yakın ve üzerinde duran mineral yapıdaki birikintilerde etkilidir. Membranın partikül penetrasyonu meydana gelirse, geri yıkama çoğu durumda daha az etkili hale gelir.
Alkali temizleyiciler nelerdir
Sağım Sistemi Deterjanları
Alkali deterjan nedir
Süt Sağım Makinası Dezenfektanı Fiyatı
GENEL temizlik ürünleri pH değeri
Temizlik ürünleri pH değerleri
Asitli kimyasal ile ne temizlenir
Yağ çözücü pH değeri
Bununla birlikte, daha büyük gözenekleri temizlemek yine de yeterli olabilir. Kayda değer gözenek boyutu varyasyonuna sahip membranlar üzerindeki mikrofiltrasyonların çoğunda, daha büyük gözenekler geçirgen akışının çok önemli bir kısmını alacaktır, bu nedenle bu teknikle temizlik yine de etkili olabilir. bununla birlikte penetrasyona, deforme olabilen veya jelatinimsi parçacıklar eşlik eder, bunlar membrana güçlü bir şekilde yerleşebilir ve organik bir içerikle yapıştırılabilir, bu durumda kimyasal temizleme uygulanmalıdır.
Membran, filtrasyon başlamadan veya yeniden başlamadan önce kapiler basınca dirençli su girişinin üstesinden gelmek için ıslatılması gerekecek kadar hidrofobik ise, su filtrasyonu sırasında bir gazla geri yıkama pratik değildir.
Kimyasal temizleme sıvısıyla geri yıkama mümkün olabilir, ancak bu sıvının bir kısmı kaçınılmaz olarak proses sıvısına rapor verecektir. Membran penetrasyonu ve iç blokajın büyük bir sorun olduğu bulunursa, geleneksel ön kaplama filtrasyonuna benzer bir Gshion’da ikincil bir membran veya ön kaplama kullanılabilir. Daha sonra, içten tıkanmış olan ön kaplamayı çıkarmak için ters yıkama kullanılabilir, ardından membran filtre, moldich ve diğerleri, 19911’de daha sert bir ön kaplama döngüsü izlenir.
Membran temizlemenin diğer fiziksel veya mekanik yolları veya akı azalmasının en aza indirilmesi aşağıdakileri içerir:
1) Normal aralıklarla, tipik olarak 10 dakika boyunca geçirilen, membran tüpünkinden biraz daha büyük bir çapa sahip köpük bilyeler kullanılmıştır. Top, filtre tüpüne girmek için deforme olur ve membran yüzeyindeki birikintiyi sıyırır. Bu tekniğin etkili olması için, zar gözenekleri biriktirilen malzemeden4 çok daha küçük olmalıdır, aksi takdirde birikinti zarın içine daha da itilecektir. Bu nedenle, bir mikrofiltreleme görevi gerçekleştiren ultrafiltrasyon membranlarına daha uygulanabilirdir.
2) Elektrik alanları, membranları temizlemek ve elektroforez 1992 vasıtasıyla yüklü partiküllerin membran yüzeyine birikmesini önlemeye çalışmak için kullanılmıştır; Wakeman ve Tarleton, 19871. Borulu metal mikrofiltrasyon membranları bu uygulama için özellikle uygundur; merkezi olarak yerleştirilmiş ince bir metal karşı elektrot, kabul edilebilir akım dağılımı sağlar.
Membran yüzeyine 100-200 mA cm-‘lik bir akım yoğunluğu sağlamak için bir DC elektrik alanı uygulanır. Bir DC alanının kullanılması, membran yüzeyinde bağlı parçacıkların çift Microfiltrex, tarihsiz] çıkarılmasına yol açan gaz kabarcıkları oluşturur. Membran, metalin kimyasal saldırısına neden olan membran yüzeyindeki oksidasyonu önleyen katottur.
3) Birleşik ultrasonik ve elektrik alanlar araştırılmış ve sinerjik bir zar temizleme etkisi bildirilmiştir.
4) Proses sıvısının membran yüzeyi üzerinde salınımlı veya pulsatil akışı da kullanılmıştır. Moonthanon ve 19911. Böyle bir akış koşulunun çeşitli proses ekipmanlarında kütle veya ısı transfer katsayısını arttırdığı bilinmektedir. Salınımlı akış sistemine de bölmeler dahil edilmiştir; bunlar, bölmeli bölümler pinnigan ve Howell, 19891 arasındaki zar yüzeyinde yüksek kayma ile girdaplara yol açar.
5) Mikrofiltrasyon sırasında sınır tabakasını veya tortu kalınlığını azaltmanın bir yolu olarak türbülans hızlandırıcılar, hava ile temizleme ve aşındırıcılar da araştırılmıştır, pejmek, et al, 1974; Milisic ve Bersillon, 19861. Jenerasyonda4 bunlar, ultrafiltrasyon sırasında olabildiği kadar mikrofiltrasyon sırasında o kadar etkili değildir.
6) Zarların biyolojik olarak işlenmesiyle çökelme ve yapışma olasılığını azaltmak için zarın yüzey değişikliği, pall ve Protheroe, 19911 kullanılmıştır. Mikrofiltrasyonda, zarın doğası, ultrarasyondan daha az anlamlıdır, ancak, akı bozunması ve zar kirlenmesi proses sıvısının ana bileşeni dışındaki türlerden kaynaklanıyor olabilir. Bu koşullar altında, membran kimyası önemli miktarda mikrofiltrasyon olabilir.
Membran yüzeyine yapışan bir türün tamamen veya sadece parçacığın sabitlenmesine neden olan parçanın çözülmesi için kimyasal temizleme, foulantın doğasına bağlıdır. Demir veya diğer metallerle kirlenme, yüksek pH’ta yaygındır. Genel hidroksitlerin ve hidratlı metal tuzlarının çökelmesi, metal kompleks oluşturucu maddelerin yokluğunda 2’nin üzerindeki pH değerlerinde meydana gelir.
Bu nedenle, önemli bir metal konsantrasyonu ve nötrlüğe yakın bir pH varsa, mikrofiltre üzerindeki koloidal metal çökeltilerinin çıkarılması gerekecektir. Organik kirlenme genellikle alkali koşullar altında uzaklaştırılır. Tescilli temizleyiciler, suda 5 veya 11’lik bir doğal pH’a sahiptir ve metal kompleks oluşturucu maddeler, enzimatik deterjanlar ve dağıtıcı maddeler içerebilir.
Asit ve alkali kimyasal temizlik şu şekilde sağlanabilir:
- 1) Sitrik asit,% 5 wiv, koloidal demir birikintilerini gidermek için kullanılır.
- 2) 5 ° C’de pH 11-13’te sodyumhidroksit, ardından 45 ° C’de genellikle 0.3 mol / lnitrik asit.
Her iki temizleme rejiminin ardından proses sıvısının yeniden verilmesinden önce temiz su ile dikkatli yıkama yapılması gerekir. Yeterli membran temizliği elde etmek için gereken süre tamamen kirlenmenin doğasına bağlıdır ve deneyle belirlenmelidir. 20-50 dakika boyunca yukarıdaki koşullar altında temizlik yapılır.
Alkali deterjan nedir Alkali temizleyiciler nelerdir Asitli kimyasal ile ne temizlenir GENEL temizlik ürünleri pH değeri Sağım Sistemi Deterjanları Süt Sağım Makinası Dezenfektanı Fiyatı Temizlik ürünleri pH değerleri Yağ çözücü pH değeri